ASML拒絕美要求禁止對(duì)華出售光刻機(jī) 光刻機(jī)是干什么用的？光刻機(jī)市場(chǎng)分析

• 2022年10月31日 GuoMeng來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 934 58
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荷蘭光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥(ASML)周三向投資者保證，美國(guó)限制中國(guó)獲取尖端半導(dǎo)體技術(shù)的最新出口管制措施，對(duì)該公司的影響“相當(dāng)有限”。ASML的言論讓市場(chǎng)感到出乎意料，一直以來(lái)，受美國(guó)政府對(duì)華貿(mào)易打壓影響，芯片設(shè)備行業(yè)蒙受損失，但ASML認(rèn)為，公司未來(lái)銷(xiāo)售額會(huì)高于

ASML拒絕美要求禁止對(duì)華出售光刻機(jī)

據(jù)彭博社20日?qǐng)?bào)道，荷蘭光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)阿斯麥(ASML)周三向投資者保證，美國(guó)限制中國(guó)獲取尖端半導(dǎo)體技術(shù)的最新出口管制措施，對(duì)該公司的影響“相當(dāng)有限”。ASML的言論讓市場(chǎng)感到出乎意料，一直以來(lái)，受美國(guó)政府對(duì)華貿(mào)易打壓影響，芯片設(shè)備行業(yè)蒙受損失，但ASML認(rèn)為，公司未來(lái)銷(xiāo)售額會(huì)高于市場(chǎng)預(yù)期。

ASML當(dāng)?shù)貢r(shí)間19日公布的財(cái)報(bào)顯示，今年三季度該公司凈銷(xiāo)售額為57.7億歐元，凈收入17億歐元，超過(guò)分析師預(yù)測(cè)的54.1億歐元銷(xiāo)售額和14.2億歐元利潤(rùn)。該公司稱(chēng)，由于對(duì)先進(jìn)芯片制造機(jī)器的強(qiáng)勁需求，第四季度的銷(xiāo)售額可能會(huì)高于分析師的預(yù)期。

光刻機(jī)是干什么用的

光刻機(jī)又被稱(chēng)為掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，是制造芯片的核心裝備。其工作原理類(lèi)似于照片沖印，需要將掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。截止目前，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)無(wú)疑是荷蘭ASML公司所生產(chǎn)的了。

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī);還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。

目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。

在加工芯片的過(guò)程中，光刻機(jī)通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫(huà)著線(xiàn)路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線(xiàn)路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。

經(jīng)過(guò)多年的努力追趕，中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈在一些領(lǐng)域已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了突破，初步打破國(guó)外巨頭完全壟斷的局面，讓中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈擁有了追趕國(guó)際的基礎(chǔ)能力。

光刻機(jī)為什么中國(guó)做不出來(lái)

光刻機(jī)不是說(shuō)中國(guó)做不出來(lái)，只是說(shuō)做出5納米精度目前是做不了，因?yàn)楹芏喾矫婕夹g(shù)方面受到了限制，像很多符合要求的光刻機(jī)零件是無(wú)法自主制造出來(lái)。

1、光刻機(jī)的鏡頭技術(shù)要求很高，我國(guó)當(dāng)前的技術(shù)水平不足以研制出精度足夠的鏡頭，只能選擇從國(guó)外進(jìn)口。

2、有一部分零件無(wú)法機(jī)器生產(chǎn)，因?yàn)樗鼈儗?duì)精度的要求相當(dāng)高，必須由很多工程師耗費(fèi)大量的時(shí)間去手工打磨。這使得我國(guó)的光刻機(jī)研制備受阻滯。

光刻機(jī)市場(chǎng)分析

光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，制造和維護(hù)均需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)。而光刻技術(shù)則是制造集成電路的關(guān)鍵技術(shù)，是通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束等廣義光源和與其敏感的光刻膠之間的相互作用在基板上形成微納結(jié)構(gòu)圖形的技術(shù)。

據(jù)中研普華研究報(bào)告《2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》分析

目前，世界光刻機(jī)行業(yè)的集中度非常高，前三大企業(yè)占據(jù)了90%以上的市場(chǎng)。中國(guó)光刻機(jī)一直是制約中國(guó)半導(dǎo)體器件生產(chǎn)的最大障礙。中國(guó)的光刻機(jī)，短期內(nèi)是無(wú)法跟上國(guó)際的。

從政策上來(lái)說(shuō)，半導(dǎo)體行業(yè)需要大量的資金，而光刻機(jī)又不是一蹴而就的，所以政府必須要確保政策和資金的持續(xù)性。除了政府的資助之外，社會(huì)資本對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)整體趨勢(shì)的了解也會(huì)更加深刻。通過(guò)政府的資金支持，引導(dǎo)社會(huì)資金進(jìn)入半導(dǎo)體行業(yè)，將更多的技術(shù)投入到半導(dǎo)體行業(yè)中來(lái)，從而促進(jìn)整個(gè)行業(yè)的發(fā)展。

從產(chǎn)業(yè)鏈來(lái)看，光刻機(jī)上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)(雙工件臺(tái))、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設(shè)置、遮光器、能量探測(cè)器、掩膜版、掩膜臺(tái)、物鏡、內(nèi)部封閉框架和減震器等11個(gè)模塊的組件。上游最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源和雙工件臺(tái)。光刻機(jī)行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機(jī)市場(chǎng)的需求。

我國(guó)在光刻機(jī)的相關(guān)政策中，對(duì)于光刻機(jī)的未來(lái)發(fā)展十分看重，在進(jìn)出口、人才培養(yǎng)等方面給予扶持，未來(lái)光刻機(jī)發(fā)展不可估量。

欲了解更多市場(chǎng)具體詳情可以點(diǎn)擊查看中研普華研究報(bào)告《2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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  2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告

  隨著光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇，大型企業(yè)間并購(gòu)整合與資本運(yùn)作日趨頻繁，國(guó)內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來(lái)愈重視對(duì)行業(yè)市場(chǎng)的分析研究，特別是對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)環(huán)境和客戶(hù)需求趨勢(shì)變化的深入研究，以期提前...

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