佳能納米印刷技術(shù)獲內(nèi)存大廠力挺 產(chǎn)業(yè)鏈公司受關(guān)注 光刻機行業(yè)市場調(diào)研與發(fā)展機會

• 李波 2024年3月6日 來源：中研普華集團、央視財經(jīng)、中研網(wǎng) 396 19
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據(jù)證券時報報道，美光公司計劃率先支持佳能的納米印刷技術(shù)，從而進一步降低生產(chǎn)DRAM存儲芯片的單層成本。美光在近日演講中表示，由于光學(xué)系統(tǒng)本身性質(zhì)，DRAM層的圖案很難用光學(xué)光刻技術(shù)進行印刷，而納米打印方式可以用更精細(xì)的方式打印出來，且鑒于納米印刷技術(shù)應(yīng)用成本

據(jù)證券時報報道，美光公司計劃率先支持佳能的納米印刷技術(shù)，從而進一步降低生產(chǎn)DRAM存儲芯片的單層成本。美光在近日演講中表示，由于光學(xué)系統(tǒng)本身性質(zhì)，DRAM層的圖案很難用光學(xué)光刻技術(shù)進行印刷，而納米打印方式可以用更精細(xì)的方式打印出來，且鑒于納米印刷技術(shù)應(yīng)用成本是沉浸式光刻技術(shù)的五分之一，因此是非常不錯的解決方案。

佳能于2023年10月公布FPA-1200NZ2C納米壓印光刻(NIL)半導(dǎo)體設(shè)備，預(yù)計最快將于今年出貨，將為芯片生產(chǎn)開辟了一條新的途徑。此前，內(nèi)存大廠SK海力士也引入了佳能納米壓印機，用于進行3D NAND的生產(chǎn)測試。

證券時報指出，納米壓印是一種微納加工技術(shù)，它采用傳統(tǒng)機械模具微復(fù)型原理，能夠代替?zhèn)鹘y(tǒng)且復(fù)雜的光學(xué)光刻技術(shù)。相較于目前已商用化的EUV光刻技術(shù)，納米壓印技術(shù)可大幅減少耗能，并降低設(shè)備成本。

另外，納米壓印設(shè)備還可以使得芯片制造商降低對于ASML的EUV光刻機的依賴，使得臺積電、三星等晶圓代工廠可以有第二個路線選擇，可以更靈活地為客戶生產(chǎn)小批量芯片。

分析師認(rèn)為，納米壓印技術(shù)在特定領(lǐng)域有替代傳統(tǒng)光學(xué)光刻的可能，隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域擴大以及該技術(shù)滲透率提升，該市場有望持續(xù)成長。

公司方面，據(jù)證券時報表示，蘇大維格：公司自研納米壓印光刻設(shè)備并批量復(fù)制的微納光學(xué)全鏈條技術(shù)能力，對市場需求、技術(shù)迭代等反應(yīng)迅速，可為客戶提供從初始設(shè)計到產(chǎn)成品的定制化技術(shù)服務(wù)。

利和興：公司全自動納米壓印生產(chǎn)線技術(shù)運用自動控制相關(guān)技術(shù)，結(jié)合納米壓印的納米模壓技術(shù)與固化技術(shù)，可把納米壓印行業(yè)內(nèi)的單機手工作業(yè)方式改變?yōu)槿ば蜃詣踊绞健?/p>

光刻機不僅應(yīng)用于芯片制造，還將擴展到更廣泛的領(lǐng)域，如光學(xué)器件、微機電系統(tǒng)(MEMS)、光電子器件等。這將為光刻機行業(yè)提供更廣闊的市場空間。隨著全球環(huán)保意識的提高，未來的光刻機將更加注重環(huán)保技術(shù)的應(yīng)用，減少環(huán)境污染，符合可持續(xù)發(fā)展的要求。

芯片制造工藝的不斷進步，光刻機需要不斷提高其分辨率和精度，以滿足更精細(xì)的芯片制造需求。這可能涉及到更高級的光源技術(shù)、更精密的鏡頭系統(tǒng)以及更智能的控制算法等。

隨著全球半導(dǎo)體市場的持續(xù)增長，光刻機需要提高生產(chǎn)效率以滿足市場需求。這可能涉及到更高效的制造工藝、更優(yōu)化的生產(chǎn)流程以及更智能的生產(chǎn)管理系統(tǒng)等。

根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》顯示：

光刻機行業(yè)市場調(diào)研與發(fā)展機會

光刻機是制造芯片的核心設(shè)備之一，也是平板顯示曝光器的重要組成部分。隨著全球電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，光刻機行業(yè)也呈現(xiàn)出蓬勃的發(fā)展態(tài)勢。

光刻機行業(yè)是一個技術(shù)密集型行業(yè)，技術(shù)創(chuàng)新是推動行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。隨著光刻技術(shù)的不斷升級，光刻機行業(yè)也在逐步實現(xiàn)從接觸式到非接觸式、從可見光到紫外光、從單波長到多波長的轉(zhuǎn)變，進一步提高了光刻的精度和效率。

隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等技術(shù)的快速發(fā)展，芯片和平板顯示器的需求不斷增長，進一步推動了光刻機行業(yè)的發(fā)展。特別是在智能手機、平板電腦、電視等消費電子領(lǐng)域，對于高精度、高效率的光刻機需求尤為迫切。

目前，全球光刻機市場主要由少數(shù)幾家企業(yè)主導(dǎo)，如ASML、Nikon、Canon等。這些企業(yè)憑借領(lǐng)先的技術(shù)和市場份額，在光刻機行業(yè)中處于領(lǐng)先地位。

綜上所述，光刻機行業(yè)在市場需求、技術(shù)創(chuàng)新、競爭格局和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展等方面都呈現(xiàn)出蓬勃的發(fā)展態(tài)勢。未來，隨著技術(shù)的不斷進步和市場的不斷拓展，光刻機行業(yè)將迎來更加廣闊的發(fā)展空間和機遇。

Hyper NA EUV光刻機有望2030年商用

資料顯示，ASML標(biāo)準(zhǔn)數(shù)值孔徑的EUV光刻機(NXE系列)目前售價約為1.83億美元，而High NA EUV光刻機(EXE:5000)的售價約為3.8億美元，增長了一倍多，如果Hyper NA EUV光刻機成本也將繼續(xù)增長一倍，一臺價格就將超過7.6億美元，這樣的價格即便是臺積電、三星、英特爾這樣的巨頭恐怕也難以承受。

ASML目前的EUV工具的數(shù)值孔徑(NA)為0.33，可實現(xiàn)13.5nm左右的分辨率，透過單次曝光，可以產(chǎn)生26nm的最小金屬間距和25-30nm尖端到尖端的近似互連空間間距，這些尺寸足以滿足4/5nm節(jié)點制程的生產(chǎn)需求。

隨著制程工藝的繼續(xù)推進，當(dāng)進入1nm制程工藝節(jié)點之后，晶體管的金屬間距將需要變得更小，屆時晶圓制造商將需要比High NA EUV光刻機更復(fù)雜的工具，這也是ASML為何計劃開發(fā)出具有更高數(shù)值孔徑Hyper NA EUV光刻機的原因。

根據(jù)此前imec的預(yù)計，憑借晶體管技術(shù)以及先進的制造工具的出現(xiàn)，2030年將進入7埃米(0.7nm)時代，2032年將有望進化到5埃米(0.5nm)，2036年將有望實現(xiàn)2埃米(0.2nm)。

光刻機行業(yè)市場發(fā)展機會

平安證券研究表示，光刻機是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，直接決定芯片制程的先進程度，重要性不言而喻，在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)擴張的趨勢下，光刻機市場規(guī)模長期可觀;

此外，光刻機開發(fā)難度大，產(chǎn)業(yè)壟斷性強，是海外對華半導(dǎo)體制裁的重災(zāi)區(qū)，直接影響國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)先進制程的發(fā)展，因此光刻機自主突破的重要性尤為凸顯，光刻機國產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈頗具潛力。

受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展，相關(guān)芯片需求也在增加。作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要組成部分，光刻機行業(yè)將受益于這一增長趨勢。

目前，光刻機市場主要由國外的幾家企業(yè)主導(dǎo)，如ASML、Nikon、Canon等。然而，隨著中國大陸代工廠的不斷擴建，對于國產(chǎn)光刻機的需求將不斷提升，這為國內(nèi)光刻機企業(yè)提供了巨大的市場機會。

總的來說，光刻機行業(yè)市場發(fā)展機會豐富，但也需要在應(yīng)對挑戰(zhàn)的同時，抓住機遇，實現(xiàn)持續(xù)發(fā)展。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的光刻機行業(yè)報告對中國光刻機行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟環(huán)境、社會環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機遇及挑戰(zhàn)。

同時揭示了市場潛在需求與潛在機會，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時機和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場情報信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時對政府部門也具有極大的參考價值。

想了解關(guān)于更多光刻機行業(yè)專業(yè)分析，可點擊查看中研普華研究院撰寫的《2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》。同時本報告還包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風(fēng)險和機遇。

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  2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告

  光刻機行業(yè)研究報告中的光刻機行業(yè)數(shù)據(jù)分析以權(quán)威的國家統(tǒng)計數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，采用宏觀和微觀相結(jié)合的分析方式，利用科學(xué)的統(tǒng)計分析方法，在描述行業(yè)概貌的同時，對光刻機行業(yè)進行細(xì)化分析，重點企業(yè)...

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