中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)需求、行業(yè)政策環(huán)境及前景分析

• 陳觀秋 2024年5月20日 來(lái)源：百度 753 45
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全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,帶動(dòng)相關(guān)芯片的需求。伴隨著成為世界電子產(chǎn)業(yè)核心，中國(guó)目前已經(jīng)成為最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，并且繼續(xù)保持最快的增速。光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要組成部分，受此影響得到大力推動(dòng)。

一、光刻機(jī)行業(yè)概述

光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上的設(shè)備，相當(dāng)于芯片制造的“打印機(jī)”，決定著芯片的工藝水平和性能，是芯片制造中的關(guān)鍵核心設(shè)備，也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心中的核心。

從產(chǎn)業(yè)鏈來(lái)看，光刻機(jī)上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)(雙工件臺(tái))、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設(shè)置、遮光器、能量探測(cè)器、掩膜版、掩膜臺(tái)、物鏡、內(nèi)部封閉框架和減震器等11個(gè)模塊的組件。上游最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源和雙工件臺(tái)。光刻機(jī)行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機(jī)市場(chǎng)的需求。

二、光刻機(jī)市場(chǎng)需求

5G技術(shù)的廣泛應(yīng)用需要大量的高性能芯片，而光刻機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一，因此5G建設(shè)的推動(dòng)促進(jìn)了光刻機(jī)市場(chǎng)的增長(zhǎng)。另一方面，中國(guó)正努力加快半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，提升自主創(chuàng)新能力。半導(dǎo)體是光刻機(jī)的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，中國(guó)政府出臺(tái)一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，進(jìn)而推動(dòng)了光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模的上漲。

我們的報(bào)告《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢(shì)、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。在未來(lái)的競(jìng)爭(zhēng)中擁有正確的洞察力，就有可能在適當(dāng)?shù)臅r(shí)間和地點(diǎn)獲得領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)具有周期性波動(dòng)特征，產(chǎn)能過剩和需求不足會(huì)導(dǎo)致光刻機(jī)產(chǎn)量下降。而近些年中國(guó)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加快，盡管中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)取得了一定的發(fā)展，但與國(guó)際領(lǐng)先水平相比，仍存在一些技術(shù)限制，尤其是高端光刻機(jī)技術(shù)受制于國(guó)外供應(yīng)商。這導(dǎo)致中國(guó)光刻機(jī)制造商在面對(duì)技術(shù)挑戰(zhàn)和供應(yīng)鏈問題時(shí)，產(chǎn)能和產(chǎn)量受到限制。根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái)，需求量約為652臺(tái)。

三、光刻機(jī)行業(yè)政策環(huán)境

《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》，提出“研發(fā)光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備，開發(fā)光刻膠、大 尺英寸硅片等關(guān)鍵材料”;《國(guó)務(wù)院關(guān)于印發(fā)“十三五”國(guó)家科技創(chuàng)新規(guī)劃的通知》提出“突破28納米浸沒式光刻機(jī)及核心部件”等政策規(guī)劃為光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了良好的政策發(fā)展環(huán)境。

2022年11月15日，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公布了華為的一項(xiàng)新專利“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”(CN115343915A)，這是在EUV光刻機(jī)核心技術(shù)上取得的突破性進(jìn)展。另外，華中科技大學(xué)研制的OPC系統(tǒng)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)研制的激光干涉系統(tǒng)等，也各自有所突破。同時(shí)，我國(guó)也在加快推進(jìn)14納米、7納米甚至更低節(jié)點(diǎn)的光刻機(jī)研發(fā)工作。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》分析：

我國(guó)可量產(chǎn)90納米以上的光刻機(jī)，與國(guó)際先進(jìn)水平雖有差距，但也能滿足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)部分需要。這表明，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域具有一定的技術(shù)積累和人才儲(chǔ)備，有望逐步縮小與國(guó)際先進(jìn)水平的差距。

我國(guó)對(duì)于光刻機(jī)行業(yè)較為重視。對(duì)于整個(gè)IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動(dòng)。其主要表現(xiàn)在資金方面的補(bǔ)助和人才方面的培養(yǎng)，以及進(jìn)出口，投融資方面的政策扶持。

四、光刻機(jī)行業(yè)前景

全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,帶動(dòng)相關(guān)芯片的需求。

根據(jù)SEMI(國(guó)際半導(dǎo)體協(xié)會(huì))預(yù)測(cè)，2024年，全球半導(dǎo)體行業(yè)計(jì)劃開始運(yùn)營(yíng)42個(gè)新的晶圓廠;全球半導(dǎo)體每月晶圓(WPM)產(chǎn)能將增長(zhǎng)6.4%，首次突破每月3000萬(wàn)片大關(guān)(以200mm當(dāng)量計(jì)算)。SEMI預(yù)計(jì)，中國(guó)芯片制造商將在2024年開始運(yùn)營(yíng)18個(gè)項(xiàng)目，產(chǎn)能同比增加13%，達(dá)到每月860萬(wàn)片晶圓。

伴隨著成為世界電子產(chǎn)業(yè)核心，中國(guó)目前已經(jīng)成為最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，并且繼續(xù)保持最快的增速。光刻機(jī)作為芯片產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要組成部分，受此影響得到大力推動(dòng)。

報(bào)告對(duì)我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、子行業(yè)發(fā)展變化等進(jìn)行了分析，重點(diǎn)分析了國(guó)內(nèi)外光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對(duì)行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢(shì)預(yù)測(cè)等等。報(bào)告還綜合了光刻機(jī)行業(yè)的整體發(fā)展動(dòng)態(tài)，對(duì)行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。

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  2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告

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