2023年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查

• 陳觀秋 2023年7月26日 來源：證券日?qǐng)?bào) 中國(guó)科技信息 841 51
• 繁體

全球光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的佳能和尼康壟斷，其中ASML更是獨(dú)占高端極紫外光刻機(jī)(EUV)的市場(chǎng)份額。隨著這些國(guó)家對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施出口限制，中國(guó)獲取高端光刻機(jī)的難度將進(jìn)一步加大。

繼美國(guó)與荷蘭之后，7月23日，日本限制半導(dǎo)體制造設(shè)備出口的新規(guī)也正式生效，這給我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最尖端的芯片制造領(lǐng)域帶來巨大壓力。

全球光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的佳能和尼康壟斷，其中ASML更是獨(dú)占高端極紫外光刻機(jī)(EUV)的市場(chǎng)份額。隨著這些國(guó)家對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施出口限制，中國(guó)獲取高端光刻機(jī)的難度將進(jìn)一步加大。

光刻機(jī)行業(yè)概述

光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上的設(shè)備，相當(dāng)于芯片制造的“打印機(jī)”，決定著芯片的工藝水平和性能，是芯片制造中的關(guān)鍵核心設(shè)備，也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心中的核心。

光刻機(jī)按照有無掩模，可細(xì)分為有掩模光刻機(jī)和無掩模光刻機(jī)。無掩模光刻機(jī)分為電子束/激光/離子束直寫光刻機(jī)，有掩模光刻機(jī)分為接近/接觸/投影光刻機(jī)。

光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，制造和維護(hù)均需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)。而光刻技術(shù)則是制造集成電路的關(guān)鍵技術(shù)，是通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束等廣義光源和與其敏感的光刻膠之間的相互作用在基板上形成微納結(jié)構(gòu)圖形的技術(shù)。

我們的報(bào)告《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢(shì)、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。在未來的競(jìng)爭(zhēng)中擁有正確的洞察力，就有可能在適當(dāng)?shù)臅r(shí)間和地點(diǎn)獲得領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

從產(chǎn)業(yè)鏈來看，光刻機(jī)上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括測(cè)量臺(tái)與曝光臺(tái)(雙工件臺(tái))、激光器、光速矯正器、能量控制器、光速形狀設(shè)置、遮光器、能量探測(cè)器、掩膜版、掩膜臺(tái)、物鏡、內(nèi)部封閉框架和減震器等11個(gè)模塊的組件。上游最為核心設(shè)備分別為光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源和雙工件臺(tái)。光刻機(jī)行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定了光刻機(jī)市場(chǎng)的需求。

光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查

光刻機(jī)作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)要求最高的設(shè)備，市場(chǎng)高度集中背景，市場(chǎng)主流產(chǎn)品基本來自前三大企業(yè)，數(shù)據(jù)顯示，隨著半導(dǎo)體和信息通訊等產(chǎn)業(yè)穩(wěn)步擴(kuò)張，全球光刻機(jī)銷量呈現(xiàn)穩(wěn)步增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，2021年top3企業(yè)銷量達(dá)478臺(tái)，同比2020年增長(zhǎng)65臺(tái)。整體來看，集成電路、面板和LED光刻機(jī)整體出貨約650臺(tái)，其中集成電路約500臺(tái)左右。

就細(xì)分產(chǎn)品類型而言，EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機(jī)，采用EUV光源，使用的光波波長(zhǎng)只有13.5nm， NA (數(shù)值孔徑)為0.33， 目前全球只有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。 隨著高端芯片持續(xù)上升，EUV銷量穩(wěn)步擴(kuò)張，是光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)的主要?jiǎng)恿Α?/p>

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》分析：

目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，有超過45萬個(gè)零件，零件數(shù)量是一輛F1賽車的20倍以上，制造難度超乎想象。即便是處于世界EUV光刻機(jī)制造壟斷地位的ASML，大約也只生產(chǎn)了其中的15%，另外85%的零件需要從全球的供應(yīng)鏈整合而來。因此，推進(jìn)我國(guó)光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)，提升半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率，是當(dāng)下乃至未來相當(dāng)長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)，既重要緊迫，同時(shí)又有很高難度的攻堅(jiān)任務(wù)。

我國(guó)可量產(chǎn)90納米以上的光刻機(jī)，與國(guó)際先進(jìn)水平雖有差距，但也能滿足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)部分需要。這表明，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域具有一定的技術(shù)積累和人才儲(chǔ)備，有望逐步縮小與國(guó)際先進(jìn)水平的差距。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上有所突破的中國(guó)企業(yè)

華卓精科在光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)上的突破，也為中國(guó)自主研發(fā)65nm至28nm 雙工件干臺(tái)式及浸沒式光刻機(jī)奠定了基礎(chǔ)，成為生產(chǎn)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的上海微電子的唯一工件臺(tái)提供商。建立初衷在于將清華大學(xué)在"極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝"國(guó)家科技重大專項(xiàng)中積累的尖端技術(shù)落地產(chǎn)業(yè)化。

在光源方面，科益虹源公司自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的首臺(tái)高能準(zhǔn)分子激光器，以高質(zhì)量和低成本的優(yōu)勢(shì)，填補(bǔ)中國(guó)在準(zhǔn)分子激光技術(shù)領(lǐng)域的空白，打破國(guó)外廠家對(duì)該技術(shù)產(chǎn)品長(zhǎng)期市場(chǎng)壟斷局面，其已完成了6khz、60w主流ArF光刻機(jī)光源制造，也是上海微電子即將交付的28nm光刻機(jī)的光源制造商。

在光學(xué)鏡頭方面，奧普光學(xué)提供的鏡頭可以做到90nm，但是與卡爾蔡司、Nikon等公司還有非常大的差距。

想要了解更多光刻機(jī)行業(yè)詳情分析，可以點(diǎn)擊查看中研普華研究報(bào)告《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》。本報(bào)告對(duì)國(guó)內(nèi)外光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展?fàn)顩r進(jìn)行了深入透徹地分析，對(duì)我國(guó)行業(yè)市場(chǎng)情況、技術(shù)現(xiàn)狀、供需形勢(shì)作了詳盡研究，重點(diǎn)分析了國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)企業(yè)、行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)以及行業(yè)投資情況，報(bào)告還對(duì)光刻機(jī)下游行業(yè)的發(fā)展進(jìn)行了探討。

• 相關(guān)深度報(bào)告REPORTS

  

  2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告

  光刻機(jī)研究報(bào)告對(duì)光刻機(jī)行業(yè)研究的內(nèi)容和方法進(jìn)行全面的闡述和論證，對(duì)研究過程中所獲取的光刻機(jī)資料進(jìn)行全面系統(tǒng)的整理和分析，通過圖表、統(tǒng)計(jì)結(jié)果及文獻(xiàn)資料，或以縱向的發(fā)展過程，或橫向類別...

  查看詳情

延伸閱讀

推薦閱讀

猜您喜歡