2024光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀、市場(chǎng)規(guī)模及企業(yè)競(jìng)爭格局分析

• 黃文玉 2024年2月27日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 1194 77
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隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等新興技術(shù)的普及和應(yīng)用，半導(dǎo)體、顯示面板等行業(yè)的市場(chǎng)需求將持續(xù)增長。這將進(jìn)一步推動(dòng)光刻膠行業(yè)的發(fā)展，尤其是在高端光刻膠產(chǎn)品方面。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕

隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等新興技術(shù)的普及和應(yīng)用，半導(dǎo)體、顯示面板等行業(yè)的市場(chǎng)需求將持續(xù)增長。這將進(jìn)一步推動(dòng)光刻膠行業(yè)的發(fā)展，尤其是在高端光刻膠產(chǎn)品方面。

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈上游主要為樹脂、光引發(fā)劑、單體等;中游依據(jù)應(yīng)用范圍不同分為PCB光刻膠、LCD光刻膠以及半導(dǎo)體光刻膠，其中半導(dǎo)體光刻膠對(duì)工藝要求更為精細(xì);下游則主要為半導(dǎo)體、PCB、平板顯示屏等。

如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對(duì)所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。

光刻膠行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀及企業(yè)競(jìng)爭格局分析

全球光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈經(jīng)過了三次較大規(guī)模的轉(zhuǎn)移：由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體從美國-日本-韓國、中國臺(tái)灣-中國大陸進(jìn)行轉(zhuǎn)移，同時(shí)由于下游市場(chǎng)需求的轉(zhuǎn)移和擴(kuò)散以及光刻機(jī)等配套產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)移，全球光刻膠產(chǎn)業(yè)大致經(jīng)歷了“美國起源-日本爭霸-中國崛起”三個(gè)階段。隨著光刻膠的發(fā)展，技術(shù)越來越成熟，下游應(yīng)用場(chǎng)景也越來越豐富，在全球光刻膠市場(chǎng)中，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%，各類型光刻膠占比較為平均，全球光刻膠產(chǎn)品占比較為均衡。

從全球市場(chǎng)規(guī)模來看，據(jù)統(tǒng)計(jì)，2022年全球光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到101.6億美元，同比增長6.4%。其中半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)ArFi占比最大(38%)，其次為KrF(34%)、G/I線(16%)、ArF(10%)，EUV占比最小(1%)。當(dāng)前G/I線光刻膠的市場(chǎng)空間趨于飽和，未來占比將逐年減少，而EUV光刻膠主要用于7nm及更小的邏輯制程節(jié)點(diǎn)，隨著相關(guān)技術(shù)的研發(fā)升級(jí)，EUV市場(chǎng)占比持續(xù)提升。

光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。光刻膠的應(yīng)用范圍主要有PCB板，LCD，LED和半導(dǎo)體，前面三種技術(shù)要求相對(duì)較低，但我國企業(yè)仍然沒有實(shí)現(xiàn)完全自給。而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場(chǎng)高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：

我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā)，目前整體還處于起步階段，工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有很大的差距，尖端材料及設(shè)備仍依賴進(jìn)口。目前光刻膠市場(chǎng)上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。目前全球高端半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)主要被日本和美國公司壟斷，日企全球市占率約80%，處于絕對(duì)領(lǐng)先地位。主流廠商包括日本的東京應(yīng)化(27%)、JSR(13%)、富士、信越化學(xué)、住友化學(xué)，以及美國杜邦(17%)、歐洲AZEM和韓國東進(jìn)世美肯等。

國內(nèi)市場(chǎng)方面，我國光刻膠行業(yè)起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在中低端光刻膠領(lǐng)域。目前布局光刻膠的本土企業(yè)主要有晶瑞電材(蘇州瑞紅)、彤程新材(北京科華)、華懋科技(徐州康博)等，已經(jīng)有G/I線、KrF與ArF技術(shù)的布局，但EUV仍暫處于空白狀態(tài)。

數(shù)據(jù)顯示，2022年中國光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到190.7億元，同比增長8.5%。目前我國光刻膠行業(yè)需求量大于產(chǎn)量，中高端產(chǎn)品進(jìn)口需求迫切。數(shù)據(jù)顯示，2022年我國光刻膠行業(yè)產(chǎn)需量分別為3.8/8.4萬噸，分別同比增長5.8%、6.8%。從下游需求來看，全球光刻膠市場(chǎng)上，產(chǎn)品占比較為均衡，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%。我國光刻膠市場(chǎng)集中在顯示面板市場(chǎng)，2022年我國光刻膠PCB領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模41.14億元;光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域39.3億元;光刻膠面板領(lǐng)域107億元;其他領(lǐng)域3.25億元。

光刻膠行業(yè)未來發(fā)展趨勢(shì)及前景

隨著納米壓印技術(shù)、極紫外光(EUV)光刻等新技術(shù)的不斷發(fā)展，光刻膠技術(shù)也將不斷突破。這些新技術(shù)將有助于提高光刻膠的分辨率、感光性和穩(wěn)定性，從而滿足更高端、更復(fù)雜的應(yīng)用需求。從技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)來看，隨著半導(dǎo)體工藝的不斷進(jìn)步，光刻膠技術(shù)也在持續(xù)迭代更新。未來，隨著光刻膠企業(yè)生產(chǎn)能力的提高和技術(shù)突破，我國光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)有望進(jìn)一步優(yōu)化，逐步實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代。

在全球化的大背景下，國際合作與競(jìng)爭將成為光刻膠行業(yè)發(fā)展的重要特征。國內(nèi)光刻膠企業(yè)需要積極參與國際競(jìng)爭，加強(qiáng)與國際同行的合作與交流，以提升自身的技術(shù)水平和市場(chǎng)競(jìng)爭力。綜上所述，光刻膠行業(yè)未來的發(fā)展前景廣闊，但也面臨著技術(shù)、環(huán)保、市場(chǎng)等多方面的挑戰(zhàn)。光刻膠企業(yè)需要加大技術(shù)研發(fā)和創(chuàng)新力度，提高產(chǎn)品質(zhì)量和環(huán)保性能，以滿足市場(chǎng)需求和競(jìng)爭要求。同時(shí)，政府和社會(huì)各界也應(yīng)關(guān)注光刻膠行業(yè)的發(fā)展，為其提供良好的政策環(huán)境和市場(chǎng)支持。

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