電?子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及前景分析2023

• 郭夢(mèng) 2023年6月8日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 784 47
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電子束曝光系統(tǒng)是集成電路微納器件以及航天、衛(wèi)星、軍工等特種芯片和半導(dǎo)體精密掩膜制造的關(guān)鍵技術(shù)，是微電子、微機(jī)械、微納米光學(xué)研究的必配設(shè)備。

電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography system)即用于實(shí)現(xiàn)電子束曝光的系統(tǒng)。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及前景分析2023

電子束曝光系統(tǒng)是集成電路微納器件以及航天、衛(wèi)星、軍工等特種芯片和半導(dǎo)體精密掩膜制造的關(guān)鍵技術(shù)，是微電子、微機(jī)械、微納米光學(xué)研究的必配設(shè)備。

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束設(shè)備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢(shì)。最先進(jìn)的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來(lái)制作0.18μm，0.15μm生產(chǎn)線的掩模版，但對(duì)特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來(lái)制作，特別是用于光學(xué)光刻中的銘版制造。

全球電子束曝光系(Electron Beam Lithography System，EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場(chǎng)份額。中國(guó)是全球最大的電子束曝光系統(tǒng)市場(chǎng)，占有大約22%的市場(chǎng)份額，之后是北美和歐洲市場(chǎng)，二者各占有大約20%的份額。

據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報(bào)告《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展策略研究報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示

第一節(jié) 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

近年來(lái)，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長(zhǎng)12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長(zhǎng)18.40%。

圖表：2018-2021年中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來(lái)源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第二節(jié) 美國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為268臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了5.10%;產(chǎn)值約為2.29億美元，較2020年增長(zhǎng)了6.02%。

圖表：2018-2021年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量和產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來(lái)源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第三節(jié) 歐洲市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長(zhǎng)了12.67%。

圖表：2018-2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來(lái)源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第四節(jié) 日本市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年日本電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為791臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了2.06%;產(chǎn)值約為6.87億美元，較2020年增長(zhǎng)了3.0%。

圖表：2018-2021年日本電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來(lái)源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)研究報(bào)告旨在從國(guó)家經(jīng)濟(jì)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略入手，分析智電子束曝光系統(tǒng)(EBL)未來(lái)的政策走向和監(jiān)管體制的發(fā)展趨勢(shì)，挖掘電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)的市場(chǎng)潛力，基于重點(diǎn)細(xì)分市場(chǎng)領(lǐng)域的深度研究，提供對(duì)產(chǎn)業(yè)規(guī)模、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、區(qū)域結(jié)構(gòu)、市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)、產(chǎn)業(yè)盈利水平等多個(gè)角度市場(chǎng)變化的生動(dòng)描繪，清晰發(fā)展方向。

欲了解更多關(guān)于電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)的市場(chǎng)數(shù)據(jù)及未來(lái)行業(yè)投資前景，可以點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報(bào)告《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展策略研究報(bào)告》。

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