光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及產(chǎn)業(yè)格局分析

• 吳亞楠 2023年9月22日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 1251 81
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光刻機(jī)上游國內(nèi)代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤微、精測電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學(xué)、美?？萍嫉?。

在半導(dǎo)體行業(yè)，光刻技術(shù)的發(fā)展經(jīng)歷了多個(gè)階段，接觸/接近式光刻、光學(xué)投影光刻、分步(重復(fù))投影光刻出現(xiàn)時(shí)間較早。目前，集成電路制造主要采用光學(xué)光刻技術(shù)，包括掃描式光刻、浸沒式掃描光刻、極紫外光刻工藝。此外，還有X射線、電子束光刻、聚焦粒子束光刻、納米壓印、激光直寫技術(shù)。

光刻這個(gè)概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去“復(fù)印”集成電路圖案，這也是我們常說的光學(xué)光刻技術(shù)，特別是紫外線光刻技術(shù)(DUV和EUV)。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路“復(fù)印”和“印刷”技術(shù)，這些技術(shù)中，有的用光，有的不用光(如電子束和納米壓印光刻)。

按應(yīng)用劃分，半導(dǎo)體光刻技術(shù)主要用在三個(gè)領(lǐng)域：前道工序的集成電路制造，后道工序的芯片封裝，以及顯示面板的制造。其中，技術(shù)含量最高、受關(guān)注度最高的就是前道工序光刻工藝，我們常說的DUV和EUV，就是這一部分應(yīng)用。

根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告》顯示：

光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查

光刻機(jī)采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)按照有無掩模，可細(xì)分為有掩模光刻機(jī)和無掩模光刻機(jī)。無掩模光刻機(jī)分為電子束/激光/離子束直寫光刻機(jī)，有掩模光刻機(jī)分為接近/接觸/投影光刻機(jī)。

光學(xué)光刻，是通過照射，用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路結(jié)構(gòu)圖形“畫”在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖，光學(xué)光刻需要掩模。集成電路的最小特征尺寸與光刻系統(tǒng)的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的有效途徑。因此，開發(fā)新型短波長光源光刻機(jī)一直是業(yè)界的研究熱點(diǎn)。

電子束光刻，該技術(shù)不需要掩模，直接將會(huì)聚的電子束斑打在表面涂有光刻膠的襯底上。電子束光刻存在的一些問題阻礙了該技術(shù)的普及，例如：電子束高精度掃描成像曝光效率低;電子在抗蝕劑和基片中的散射和背散射現(xiàn)象造成的鄰近效應(yīng);在實(shí)現(xiàn)納米尺度的加工中，電子抗蝕劑和電子束曝光及顯影、刻蝕等工藝技術(shù)問題。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及配套材料、中游光刻機(jī)系統(tǒng)集成和生產(chǎn)及下游光刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié)，技術(shù)極為復(fù)雜，涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，部分機(jī)型所需的零部件更是多達(dá)數(shù)十萬件，因此光刻機(jī)的生產(chǎn)通常涉及上千家供應(yīng)商。

其中，光刻機(jī)上游國內(nèi)代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤微、精測電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學(xué)、美?？萍嫉?。

就目前國內(nèi)主要半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率情況而言，刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備、清洗設(shè)備技術(shù)要求較低，國產(chǎn)突破較早，目前國產(chǎn)化率都在10%以上，但光刻機(jī)、涂膠顯影、離子注入、探針臺等仍是尚未完全量產(chǎn)的產(chǎn)品，目前技術(shù)水平仍停留在研發(fā)及提升技術(shù)方面，這些設(shè)備不僅價(jià)值量占比高，且對工藝品質(zhì)影響較大，是實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代的戰(zhàn)術(shù)重心，其中光刻機(jī)更是重中之重。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)格局

光刻機(jī)下游主要半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，整體需求受半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣度影響較大，隨著全球和中國半導(dǎo)體市場規(guī)模穩(wěn)步擴(kuò)張，光刻膠需求保持穩(wěn)步增長。數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模達(dá)5559，同比2020年增長26.2%。中國集成電路銷售額超萬億元，達(dá)10458.3億元，同比2020年增長18.2%。隨著半導(dǎo)體市場規(guī)模不斷擴(kuò)大，半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模也將持續(xù)擴(kuò)容。盡管2022年全球經(jīng)濟(jì)下滑明顯，下游需求受到顯著影響，半導(dǎo)體設(shè)備市場仍在增長，達(dá)到1076.4億美元的規(guī)模。

高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。

國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。光刻機(jī)行業(yè)報(bào)告對中國光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進(jìn)行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會(huì)環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。還重點(diǎn)分析了重點(diǎn)企業(yè)的經(jīng)營現(xiàn)狀及發(fā)展格局，并對未來幾年行業(yè)的發(fā)展趨向進(jìn)行了專業(yè)的預(yù)判。

本報(bào)告同時(shí)揭示了光刻機(jī)市場潛在需求與潛在機(jī)會(huì)，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時(shí)機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場情報(bào)信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時(shí)對政府部門也具有極大的參考價(jià)值。同時(shí)包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。

想了解關(guān)于更多光刻機(jī)行業(yè)專業(yè)分析，可點(diǎn)擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告》。

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  2023-2028年光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測報(bào)告

  光刻機(jī)研究報(bào)告對光刻機(jī)行業(yè)研究的內(nèi)容和方法進(jìn)行全面的闡述和論證，對研究過程中所獲取的光刻機(jī)資料進(jìn)行全面系統(tǒng)的整理和分析，通過圖表、統(tǒng)計(jì)結(jié)果及文獻(xiàn)資料，或以縱向的發(fā)展過程，或橫向類別...

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