去年全球半導體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元

• 2021年6月4日 HaoChenChong來源：互聯(lián)網(wǎng) 888 55
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

2020年全球半導體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。2016-2019年，全球半導體光刻膠的市場規(guī)模從15億美元增長至2019年的18億美元，年復合增速達6.3%，2020年，全球半導體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元。全球半導體光刻膠領域主要被JSR、TOK、羅門哈斯、信越化學、富士材料等頭部廠商壟斷，尤其是高端EUV和ArF光刻膠幾乎完全被美國和日本控制。國產光刻膠企業(yè)無論是技術水平還是市場份額均遠落后世界先進廠商。

光刻膠，又稱為光致抗蝕劑，是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質，通過曝光其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠是PCB、LCD和半導體等各應用行業(yè)的上游材料，一般相同用途的光刻膠，由于投資大、市場比下游應用行業(yè)小，行業(yè)集中度非常高，只能有幾家企業(yè)生存。光刻膠專用化學品具有相似特征，即品種多、用量小、品質要求高，投資相對普通化學品大，行業(yè)集中度高。

而半導體光刻膠技術壁壘較高、市場高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產商主要有日本JSR、信越化學工業(yè)、日本TOK、陶氏化學等。

我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā)，目前整體還處于起步階段，工藝技術水平與國外企業(yè)有很大的差距，尖端材料及設備仍依賴進口。例如，京東方目前已建立17個面板顯示生產基地，其中有16個已經(jīng)投產，但京東方用于高端面板的光刻膠仍然由國外企業(yè)提供。目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、LG化學等等，中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術。

普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能，人們正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。伴隨著新一代曝光技術(NGL)的研究與發(fā)展，為了更好的滿足其所能實現(xiàn)光刻分辨率的同時，光刻膠也相應發(fā)展。先進曝光技術對光刻膠的性能要求也越來越高。

在一個供大于求的需求經(jīng)濟時代，企業(yè)成功的關鍵就在于，是否能夠在需求尚未形成之時就牢牢地鎖定并捕捉到它。那些成功的公司往往都會傾盡畢生的精力及資源搜尋產業(yè)的當前需求、潛在需求以及新的需求。隨著光刻膠行業(yè)競爭的不斷加劇，國內優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)愈來愈重視對市場的研究，特別是對企業(yè)發(fā)展環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究。正因為如此，一大批國內優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)迅速崛起，逐漸成為行業(yè)中的翹楚!

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