刻蝕機(jī)市場(chǎng)分析 我國(guó)刻蝕設(shè)備研發(fā)進(jìn)度仍待加快

• 2022年8月17日 ZhouJiaLiang來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 775 47
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全球刻蝕設(shè)備行業(yè)的主要企業(yè)即泛林半導(dǎo)體，東京電子和應(yīng)用材料三家。從全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)份額來(lái)看，三家企業(yè)的合計(jì)市場(chǎng)份額就占到了全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)的90%以上。

刻蝕機(jī)市場(chǎng)分析

刻蝕是通過(guò)移除晶圓表面材料，在晶圓上根據(jù)光刻圖案進(jìn)行微觀雕刻，將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝?？涛g分為濕法刻蝕和干法刻蝕，濕法刻蝕是利用化學(xué)溶液溶解晶圓表面的材料，干法刻蝕使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來(lái)刻蝕材料并形成可以從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品。

刻蝕工藝使用的半導(dǎo)體設(shè)備為刻蝕機(jī)。全球刻蝕設(shè)備行業(yè)的主要企業(yè)即泛林半導(dǎo)體，東京電子和應(yīng)用材料三家。從全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)份額來(lái)看，三家企業(yè)的合計(jì)市場(chǎng)份額就占到了全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)的90%以上。其中泛林半導(dǎo)體獨(dú)占52%的市場(chǎng)份額，東京電子與應(yīng)用材料分別占據(jù)20%和19%的市場(chǎng)份額。

國(guó)內(nèi)的刻蝕設(shè)備企業(yè)主要有中微公司、北方華創(chuàng)、屹唐半導(dǎo)體和中電科。其中，中微公司、北方華創(chuàng)和屹唐半導(dǎo)體均以生產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備為主，中電科除了生產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備以外還生產(chǎn)濕法刻蝕設(shè)備。除上述企業(yè)外，國(guó)內(nèi)還有創(chuàng)世微納、芯源微和華林科納等企業(yè)生產(chǎn)刻蝕設(shè)備。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報(bào)告《2021-2026年中國(guó)刻蝕機(jī)市場(chǎng)深度全景調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》分析

全球刻蝕設(shè)備領(lǐng)域中，硅基刻蝕主要被Lam和AMAT壟斷，介質(zhì)刻蝕主要被TEL和Lam壟斷。數(shù)據(jù)顯示，2020年全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約為137億美元，其中，介質(zhì)刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約60億美元，導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模約76億美元。

目前硅刻蝕和介質(zhì)刻蝕基本平分干法刻蝕市場(chǎng)，ICP刻蝕設(shè)備主要用于金屬及硅刻蝕，占比略高于主要用于介質(zhì)刻蝕的CCP設(shè)備，占比61%左右。這兩種設(shè)備皆為干法刻蝕主要設(shè)備，整體占比全球90%以上刻蝕方式。

刻蝕機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈中，上游為刻蝕機(jī)的四大組成部分，主要包括預(yù)真空室、刻蝕腔體、供氣系統(tǒng)及真空系統(tǒng);中游為刻蝕機(jī)的制造，刻蝕技術(shù)主要有兩種，傳統(tǒng)濕法刻蝕技術(shù)及現(xiàn)代干法刻蝕技術(shù);下游為刻蝕機(jī)的應(yīng)用，主要用來(lái)制造半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池及其他微機(jī)械制造。

2020年全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模123.3億美元，預(yù)計(jì)到2024年市場(chǎng)規(guī)模151.8億美元，2019-2024年年均復(fù)合增長(zhǎng)率為7%。

根據(jù)被刻蝕材料的不同，刻蝕設(shè)備可分為介質(zhì)刻蝕設(shè)備和導(dǎo)體刻蝕設(shè)備，其中導(dǎo)體刻蝕包括硅刻蝕和金屬刻蝕。數(shù)據(jù)顯示，2020年全球?qū)w刻蝕和介質(zhì)刻蝕占比分別為61%和39%。

我國(guó)刻蝕設(shè)備研發(fā)進(jìn)度仍待加快

國(guó)內(nèi)刻蝕龍頭企業(yè)的部分技術(shù)已達(dá)到國(guó)際一流水平。在目前廣泛使用的高密度等離子刻蝕設(shè)備上，中微公司的ICP和CCP刻蝕設(shè)備與泛林集團(tuán)DRIE刻蝕設(shè)備的刻蝕效果相當(dāng)。同時(shí)，中微公司的介質(zhì)刻蝕已經(jīng)進(jìn)入臺(tái)積電7nm/5nm產(chǎn)線，是唯一一家進(jìn)入臺(tái)積電產(chǎn)線的國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備生產(chǎn)商。北方華創(chuàng)在ICP刻蝕領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)顯著，已量產(chǎn)28nm制程以上的刻蝕設(shè)備，同時(shí)已經(jīng)突破14nm技術(shù)，并進(jìn)入中芯國(guó)際14nm產(chǎn)線驗(yàn)證階段。隨著國(guó)內(nèi)刻蝕龍頭緊跟先進(jìn)制程發(fā)展，加大研發(fā)投入，積極并購(gòu)與整合，整體國(guó)產(chǎn)刻蝕設(shè)備水平有望快速迭代升級(jí)并完成刻蝕領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)替代。

近年來(lái)，隨著國(guó)內(nèi)晶圓廠制程工藝的進(jìn)步，多重曝光工藝逐步得到應(yīng)用，對(duì)刻蝕設(shè)備的需求潛力增大，帶動(dòng)了我國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。在政策的推動(dòng)和研發(fā)的進(jìn)步下，我國(guó)刻蝕設(shè)備行業(yè)涌現(xiàn)出了一批優(yōu)秀的領(lǐng)先企業(yè)。但我國(guó)企業(yè)在刻蝕設(shè)備制造方面距離世界頭部企業(yè)仍有一定的距離，刻蝕設(shè)備研發(fā)進(jìn)度仍待加快。

想要了解更多刻蝕機(jī)行業(yè)的發(fā)展前景，請(qǐng)查閱《2021-2026年中國(guó)刻蝕機(jī)市場(chǎng)深度全景調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》。

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